當(dāng)前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 芯片加工設(shè)備 > 光刻機(jī) > DS-2000/14G型光刻機(jī)

DS-2000/14G型光刻機(jī)

簡(jiǎn)要描述：DS-2000/14G型光刻機(jī)該機(jī)可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長(zhǎng)的極紫外光作為光源，用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板，采用積木錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明。

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-06-04
訪問(wèn) 量：2251

產(chǎn)品咨詢(xún)聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類(lèi)

Product Category

芯片加工設(shè)備

激光切割機(jī) 熱壓鍵合機(jī) 等離子清洗機(jī) 光刻機(jī)

查看全部

相關(guān)文章

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	價(jià)格區(qū)間	面議
儀器種類(lèi)	微流控芯片系統(tǒng)	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,電子

產(chǎn)品名稱(chēng)：DS-2000/14G型光刻機(jī)

主要技術(shù)指標(biāo)：

單次曝光面積：1.4mm×1mm;

大曝光基片：100mm ×100mm ;

對(duì)準(zhǔn)精度：±0.8μm（半自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)）;

大膠厚：300μm（SU8膠）;

自動(dòng)逐場(chǎng)對(duì)焦；

分辨力：1μm；

X、Y、Z、θ四自由度電動(dòng)位移臺(tái) ;

X、Y平移重復(fù)定位精度：0.65μm（3σ）;

Z向運(yùn)動(dòng)精度：1μm。

DS-2000/14G型光刻機(jī)技術(shù)特點(diǎn)：

該機(jī)可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長(zhǎng)的極紫外光作為光源，用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板，采用積木錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明，并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（可同時(shí)使用），拼接獲得大面積圖形，曝光設(shè)定采用微機(jī)控制，菜單界面友好，操作簡(jiǎn)便。

產(chǎn)品咨詢(xún)